据华盛顿智库技术与国务中心（CTS）发布的报告显示，中国芯片制造商在2012年至2026年初期间，累计积累了343台沉浸式深紫外（DUV）光刻机。尽管受到无法采购ASML更先进极紫外（EUV）系统的限制，但这些设备仍赋予了中国工厂生产复杂处理器的巨大潜力，其中许多工具具备支持7nm级工艺节点的能力。
设备积累与出口管制缺口
近年来，中国政府对半导体产业施加了多项支持措施，促使本土晶圆制造企业在设备采购上表现活跃。根据CTS报告，自2012年以来，包括逻辑和内存制造商在内的中国芯片厂商从ASML进口了343台沉浸式DUV光刻扫描仪，这一数据未包含在中国境内运营的跨国工厂所进口的设备。
报告指出，现有的出口管制存在显著漏洞：最初为较成熟工艺购买的 lithography 设备可能被重新分配用于更先进的工艺技术，例如行业在2018年至2019年间采用的7nm级节点。鉴于缺乏其他替代方案，CTS建议全面禁止向中国出口所有沉浸式DUV系统，并严格限制安装在先进工厂中的机器更换部件及维护服务。
关键机型分布与产能估算
CTS声称，在这343台设备中，有270台为ASML的Twinscan NXT:1980i系列扫描仪。该型号具备38nm分辨率和2.5nm套刻精度，对于实现7nm级节点的多样化制造至关重要。此外，中国工厂还拥有22台NXT:2050i系统和6台NXT:2000i系统。目前尚不清楚这296台先进沉浸式DUV扫描仪中实际处于运行状态的数量。
采购趋势与市场占比
荷兰当局于2023年9月对ASML NXT:2000i及更高性能的沉浸式DUV扫描仪实施出口许可要求，实质上阻断了这些高端设备流向中国。因此，中国芯片制造商转向采购能力相对较弱的NXT:1980i系列。CTS估计，中国工厂在2024年购买了约90台NXT:1980i扫描仪，2025年又购买了89台，两年间相关支出超过130亿美元。虽然荷兰在2024年9月将出口管制范围扩大至NXT:1980i，但该型号的单个出口申请仍可能获得批准。此外，ASML也可能向客户出售NXT:1965Ci系统，但其是否拥有维护这些过时扫描仪所需的全部组件尚不确定。
ASML自身的财务数据显示，中国市场的需求异常旺盛：该国占其2024年系统净销售额的41%，2025年占比为33%。随后，这一比例在2026年第一季度降至19%，第二季度进一步降至14%，符合ASML此前发出的预警。
数据验证与二手市场影响
值得注意的是，CTS报告中关于2024年90台和2025年89台NXT:1980i系统的数据，无法直接从ASML公布的财务细节中独立重建。然而，ASML的全球销售披露提供了参考基准：该公司在2024年和2025年分别在全球售出129台和131台ArFi系统。若CTS的数据准确，意味着中国芯片制造商在2024年和2025年分别购买了ASML沉浸式DUV工具总产量的70%和68%，即便当时已引入出口管制。与此同时，NXT:1980Di系统在二手市场上供应充足。
*注：文中提到的NXT:1980i机器可能涵盖原有的1980Di以及生产率更高的新型号1980Fi。为保持叙述一致性，本文统一使用“NXT:1980i”名称，尽管ASML从未正式生产过名为NXT:1980i的扫描仪型号。
