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中科院微电子所利用DUV光刻制造出GAA晶体管

中科院微电子所利用DUV光刻制造出GAA晶体管。该工艺旨在为无EUV环境下实现3纳米及以下制程提供路径，已验证器件栅控功能正常，但未披露关键几何参数，尚非量产方案。