中国初创展示EUV光源原型,距商用光刻机尚远
清华校友创办的朗道硅光展示EUV光源原型,输出功率超15W。该设备仅为光刻机核心组件之一,距商用整机落地预计还需三到五年时间。
共 4 篇相关文章
清华校友创办的朗道硅光展示EUV光源原型,输出功率超15W。该设备仅为光刻机核心组件之一,距商用整机落地预计还需三到五年时间。
ASML Q3营收创纪录,光刻机需求超产能至2028年。AI驱动下,其营收同比增55%,毛利率达57.5%新高。CEO称供不应求将持续数年,部分客户已意向订购至2030年设备。
ASML发布2026年Q3财报,净销售额117亿欧元。受AI需求驱动,全年销售预测上调至至少430亿欧元。尽管计划扩产,CEO坦言仍难满足积压订单,并宣布将从2027年起提高产品价格。
SEMICON India开幕,应用材料与泛林宣布对印巨额投资。两家设备巨头分别计划投入360亿和1000亿卢比,用于在班加罗尔建设研发制造基地及硅锭生产据点,预计创造千个岗位并培养本土人才。