UIUC用煤炭碳纳米点突破二维半导体介电层集成 UIUC用煤炭碳纳米点突破二维半导体介电层集成难题。该方法使等效氧化物厚度达0.6纳米，泄漏电流低于0.1毫安每平方厘米，助力器件在0.5伏低压下运行，显著降低计算能耗。 硬件 2026-10-09 15:20 5 阅读
