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ETH研发耐化学OLED光刻技术，突破微显示制造瓶颈

ETH团队开发耐化学OLED光刻技术，突破微显示制造瓶颈。该成果发表于《自然》，通过核心-外壳结构保护发光分子，实现了最高分辨率多色光图像及电致发光器件制备。