# 薄膜技术

高碘掺杂LiBH4薄膜实现应力辅助导电性保留

日本芝浦工业大学团队开发多层沉积法，制备出高碘掺杂LiBH4薄膜。该技术将碘替代率提升至20%-40%，室温电导率达4.9×10⁻⁵ S cm⁻¹，并发现应力可辅助保留导电性。