高碘掺杂LiBH4薄膜实现应力辅助导电性保留 日本芝浦工业大学团队开发多层沉积法,制备出高碘掺杂LiBH4薄膜。该技术将碘替代率提升至20%-40%,室温电导率达4.9×10⁻⁵ S cm⁻¹,并发现应力可辅助保留导电性。 科学探索 2026-09-24 22:00 7 阅读