据 CNews 报道，总部位于俄罗斯泽列诺格勒（Zelenograd）的纳米技术中心（ZNTC）已完成其首款支持 130 纳米工艺、处理 200 毫米晶圆的光刻设备的第三个研发阶段。该设备目前处于内部测试阶段，距离实现大规模芯片量产仍有数年之遥。
ZNTC 方面称此装置为“俄罗斯首台具备 130 纳米光刻能力的仪器”。然而，这一说法在业界存在争议，因为此前俄罗斯芯片制造商已开发出两种基于 130 纳米节点的技术，尽管这些技术依赖 ASML 的设备。
项目分工与成本分析
根据 CNews 获取的文件显示，该项目由 ZNTC 主导整体系统开发、测试及工艺设计，包括投影镜头计算和工艺建模。Planar 公司负责机械组件制造并委托原型制作，拉萨德（Laserad）则开发了激光器光源。俄罗斯工业和贸易部为该项目的拨款约为 7000 万美元。
在成本方面，一台具备 130nm 制程能力的 ZNTC 步进式光刻机预估售价约为 670 万美元，其中激光光源成本约 60 万美元，单台总成本达 730 万美元。作为对比，ASML 的 PAS 5500/150 步进式光刻机在 2001 年第一季度上市时标价为 310 万美元。若按累计通胀率约 88% 折算至 2026 年美元价值，约为 580 万美元。这意味着这款俄罗斯产支持 200mm 晶圆、具备 130nm 制程技术的设备，其当前造价高于二十年前的同类国际产品。
行业评价与技术细节
Strategy Partners 分析师亚历山大·米哈伊洛夫（Alexander Mikhailov）向 CNews 表示：“为 130 纳米工艺设计的国内开发光刻系统原型的创建，是俄罗斯微电子产业的一个重要里程碑。”他认为这表明俄罗斯拥有开发此类设备所需的工程专业知识，并为后续开发针对 90nm 和 65nm 等更小工艺节点的系统铺平了道路。
关于 ZNTC 声称负责的工艺技术“建模和开发”，这可能指的是围绕特定机器开发或验证光刻工艺参数（如抗蚀剂、曝光剂量、焦点/工艺窗口、掩膜、对齐/覆盖、开发条件、温度等），而非从零开始发明一套完整的 130nm 技术。目前尚不清楚 ZNTC 的步进器能否直接集成到现有的 130nm 生产节点中。
量产时间表
鉴于典型的光刻工具开发周期，ZNTC 的 130nm 步进器可能还需要几年时间才能用于实际芯片生产。目前，该工程原型交付时间比预期晚了五个月。第一个原型正在进行内部工程和验收测试，随后 ZNTC 将完成设计并验证从成像、覆盖到可靠性和吞吐量的一切指标，这将需要一年多的时间。
只有在上述步骤完成后，才能为真正的芯片制造商建造原型机器。即使是成熟的供应商，通常也需要几年时间才能从首个集成工程系统转向生产部署。因此，俄罗斯机器开始加工商业晶片的现实时间最早可能在 2029 年左右。虽然只要 ZNTC 拥有所有所需零件，步进器本身的有限生产可能会更早开始，但这不应与其适用于大量半导体制造的资格相混淆。
